Investigation of micro-stress at Si/SiO₂ interface using infrared spectroscopy

  • Autor:

    Hafshejani, T. M. / Königer, F. / Wohlgemuth, J. / Fu, Z. / König-Edel, M. / Schwotzer, M. / Thissen, P. (2019)
  • Quelle:

    DPG-Frühjahrstagung der Sektion Kondensierte Materie (SKM), Fachverband Oberflächenphysik (2019), Regensburg
  • Datum: 31. März–5. April 2019